真空電鍍是通過(guò)濺射進(jìn)行的。由于電鍍方法的不同，同一電鍍材料制成的薄膜效果也會(huì)有所不同。雖然肉眼看不見(jiàn)，但確實(shí)有一定的優(yōu)勢(shì)。膜厚穩(wěn)定性好。由于濺射電鍍的厚度與目標(biāo)電流和放電電流密切相關(guān)，電流越高，濺射效率越高。在同一時(shí)間內(nèi)，電鍍的厚度相對(duì)較大，因?yàn)橹灰刂坪秒娏髦担婂兊暮穸然虮《染涂梢浴?/p>

  膜層結(jié)合力強(qiáng)，在真空電鍍加工過(guò)程中，部分電子撞擊基材表面，激活表面原子，產(chǎn)生清潔效果，濺射能量高于蒸發(fā)能量1-2個(gè)數(shù)量級(jí)，如此高能量電鍍?cè)幼矒艋谋砻妫懈嗟哪芰總鬟f到基材上，產(chǎn)生更多的熱能，加速電子激活原子的運(yùn)動(dòng)，電鍍?cè)尤芙?，其他電鍍?cè)映练e成膜，加強(qiáng)膜與基材的結(jié)合。

  鍍層范圍廣，因?yàn)闉R射鍍層是通過(guò)氬離子的高速轟擊濺出的，當(dāng)然這個(gè)厚度在允許的范圍內(nèi)，控制電流。無(wú)論重復(fù)鍍多少次，膜的厚度都不會(huì)改變，膜厚的穩(wěn)定性可以歸因于膜厚的良好可控性和重復(fù)性。與熔點(diǎn)不同，只能使用熔點(diǎn)較低的鍍層材料，濺射鍍層固體的物質(zhì)可以成為鍍層材料。