真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。

真空電鍍特點(diǎn)有哪些：
1, 真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴(yán)格復(fù)制出啤件表面的形狀
2, 工作電壓不是很高(200V)﹐操作方便﹐但設(shè)備較昂貴﹒
3, 蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數(shù)少﹐生產(chǎn)效率較低﹒
4, 只限于比鎢絲熔點(diǎn)低的金屬(如鋁﹑銀﹑銅﹑金等)鍍飾﹒
5, 對(duì)鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來(lái)彌補(bǔ)工件表面缺陷﹒
6, 真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等