真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項新發(fā)展。真空電鍍當高溫蒸發(fā)源通電加熱后，真空電鍍促進待鍍材料—蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。真空電鍍蒸發(fā)料粒子獲得必定動能，真空電鍍則沿著視野方向徐徐上升，最終真空電鍍附著于工件表面上堆積成膜。真空電鍍用這種工藝構(gòu)成的鍍層，真空電鍍與零件表面既無牢靠的化學結(jié)合。

   真空電鍍的簡單效果進程：真空電鍍接通蒸發(fā)源交流電源，真空電鍍蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，真空電鍍進入輝光放電區(qū)并被電離。真空電鍍帶正電荷的蒸發(fā)料離子，陰極吸引下，伴隨氬離子一起沖向工件，真空電鍍當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子跨越濺失離子的數(shù)量時，真空電鍍則逐步堆積構(gòu)成一層牢靠粘附于工件表面的鍍層。

   真空電鍍工藝則有所不同，真空電鍍是真空罩內(nèi)進行的但這時鍍膜進程是以電荷傳遞的方式來完成的，真空電鍍蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)吸引下，真空電鍍以很高的速度注入到工件表面。