真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項(xiàng)新發(fā)展。真空電鍍當(dāng)高溫蒸發(fā)源通電加熱后，真空電鍍促進(jìn)待鍍資料—蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。真空電鍍蒸發(fā)料粒子取得必定動(dòng)能，真空電鍍則沿著視界方向緩緩上升，最終真空電鍍附著于工件表面上堆積成膜。真空電鍍用這種工藝構(gòu)成的鍍層，真空電鍍與零件表面既無(wú)健壯的化學(xué)結(jié)合。

   真空電鍍的簡(jiǎn)略效果進(jìn)程：真空電鍍接通蒸發(fā)源交流電源，真空電鍍蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，真空電鍍進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。真空電鍍帶正電荷的蒸發(fā)料離子，陰極吸引下，伴隨氬離子一同沖向工件，真空電鍍當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子跨過(guò)濺失離子的數(shù)量時(shí)，真空電鍍則逐漸堆積構(gòu)成一層健壯粘附于工件表面的鍍層。

   真空電鍍工藝則有所不同，真空電鍍是真空罩內(nèi)進(jìn)行的但這時(shí)鍍膜進(jìn)程是以電荷傳遞的方式來(lái)完成的，真空電鍍蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)吸引下，真空電鍍以很高的速度注入到工件表面。